双电子束可以沉积大尺度薄膜，且具有极高质量和极高重复性。它配备了2个电子束源。每个电子束源安装有多个靶材坩埚，其最多可存储6种靶材料。由于它有2个电子束源，可以同时沉积2种不同的材料到衬底上。此外，还配备有多个样品公转和自转的样品行星机构。可以在多个衬底上精确和同时沉积，同时显著改善沉积薄膜的均匀性和质量。 此外，利用FBBEAR系统控制软件使工艺过程自动化，从而实现

EBS-150Feature:-Base pressure:5E-8 torr-8 inch sample (max.)-Tilt/raotation Substrate Manipulator with Z stage-IBAD (option)-Fully automatic process via software control-Water cooling chamber