利用磁控溅射进行标准物理气相沉积(PVD)作业在玻璃(or 其他材料)上进行镀膜工艺1. 多腔连续水平式生产2. 尺寸2.5~5代线 (370x470mm~1100x1250mm)3. 纯金属溅镀、反应式溅镀、混合式溅镀、表面清洁,改质 等多种制程搭配4. 全自动化系统5. 简易操作人机界面 应用范例：膜层和膜系: AZO, Cu, Ga, ITO, Mo, Al,In,Ag...