铠柏科技有限公司的EBS-150电子束蒸发系统配有可编程控制，可以自动做多层膜蒸发，可以提供多坩埚电子束蒸发源，依次蒸发不同的蒸发材料，而不破坏真空。系统配置有用于单层膜和多层膜自动工艺控制的镀膜沉积控制器。

技术参数：

Vacuum Chamber: 316不锈钢圆柱形腔体，最低outgas的不锈钢材料；
Pumping: 分子泵或冷凝泵；
Load Lock: 手动或自动传样片,适合各种形状尺寸的小破片到200mm大的圆片，高真空背景传递；
Process Control: PC Labview自动控制界面，菜单控制，数据获取和远程控制 ；
In-Situ Monitoring & Control: QCM膜厚监控，光学膜厚监控；
RGA残余气体分析；
Substrate Fixture: 单片，多片，行星式衬底夹具；
Substrate Holders: 可加热，冷却，旋转；倾角；
Ion Source: 衬底预清洗，纳米表面改性。